薄膜分析

X射線衍射對于研究外延層和其他薄膜材料具有特殊價值。采用精密的晶格參數(shù)的測量方法，可以很準(zhǔn)確的確定晶格的外延層及其基底。在外延器件中晶格參數(shù)匹配或不匹配是一個重要因素如磁泡存儲器的磁性石榴石薄膜，LED用摻雜砷化鎵薄膜和高速晶體管和其他重要的電子產(chǎn)品。對于薄膜X射線衍射的另一個應(yīng)用是使用高溫衍射通過測定晶格參數(shù)隨溫度的變化來確定熱膨脹系數(shù)。